Китайская компания SMIC, работая по заказу Huawei, делает значительные шаги в создании нового литографического оборудования, необходимого для производства 8-нм чипов. Согласно обновленному каталогу Министерства Промышленности и Информационных Технологий КНР, новое оборудование позволит выпускать чипы с точностью до 8-ми нм, используя лазеры с волной длинною - 248 нм при разрешающей способности - 65 нм. В данной разработке также участвуют китайские компании AMEC и SMEE, но с учетом новых экспортных ограничений Нидерландов на поставки оборудования ASML, успешный выпуск китайских DUV-сканеров вероятно сможет много снизить зависимость местной полупроводниковой промышленности от иностранных поставщиков и только укрепить технологический суверенитет Китая.